<noscript id="c267d"></noscript>

    <ins id="c267d"><option id="c267d"></option></ins>

  1. <tr id="c267d"><nobr id="c267d"><delect id="c267d"></delect></nobr></tr>
  2. <tr id="c267d"><small id="c267d"><delect id="c267d"></delect></small></tr>
    1. <menuitem id="c267d"></menuitem>
        1. <ins id="c267d"><video id="c267d"><var id="c267d"></var></video></ins>

          1. <tr id="c267d"><small id="c267d"><delect id="c267d"></delect></small></tr>

              <menuitem id="c267d"><video id="c267d"></video></menuitem>
                <sup id="c267d"><track id="c267d"></track></sup><sup id="c267d"></sup>
                <tr id="c267d"></tr>

                <output id="c267d"><track id="c267d"></track></output>
                1. <output id="c267d"><nobr id="c267d"></nobr></output>
                  <ins id="c267d"><option id="c267d"></option></ins>

                  <noscript id="c267d"></noscript><small id="c267d"></small>
                  <ruby id="c267d"><option id="c267d"></option></ruby>

                  1. 歡迎來到鑫磊磁電有限公司!

                    全國熱線電話:

                    +86 18351670035

                    常見問題
                    您所在的位置:首頁 > 新聞動態 > 常見問題

                    氣相沉積釹鐵硼防護的技術是什么

                    作者:admin 來源: 發布日期:2021.04.20 10:15
                      據鑫磊磁電小編了解,日本某些釹鐵硼磁鐵生產商采用熱蒸發和熱噴涂相結合的方法,在釹鐵硼表面沉積金屬鋁進行防護,目前國內尚未有單位掌握這項技術。
                    氣相沉積釹鐵硼防護的技術是什么
                     
                    長期來看,物理氣相沉積技術(PVD),如磁控濺射、離子鍍等,是一種非常好的沉積方法。

                    方法。用此工藝在釹鐵硼表面沉積金屬膜,其穩定性及鍍層/基體結合力高,致密度大,在冷熱交變環境中抗腐蝕能力強。研究表明,如果沉積過程中濺射粒子的能量足夠大,可以提高磁性矯頑力。

                    此外,釹鐵硼磁體工件的邊角對施鍍厚度的影響程度遠低于電鍍和化學鍍,而且施鍍過程不會產生污染。最近幾年,由于技術的發展,生產成本大大降低。

                    采用物理氣相法沉積可得到多種類型的鍍層,而Al鍍層是一種比較經濟的鍍層方法,是一種很有前途的先進防護技術,因此,該技術的產業化推廣研究應引起產業界和政府部門的重視。

                    金屬鍍層的物理氣相沉積工藝要解決的問題有:

                    (1)釹鐵硼磁體保護要求在器件的每一面都采用相同的鍍層,如何解決磁體在批量加工時的三維旋轉問題,保證成膜質量的一致性,既是一個工程技術問題,又是一個濺射粒子在薄膜表面運動沉積的機理問題;

                    燒結釹鐵硼永磁體由于生產過程中表面和內部有大量氣孔,需要研究磁體結構形態對濺射層的影響,提高其結合力;

                    (3)高能量濺射原子在工件表面可達到一定深度,在磁體表面形成磁疇,提高了磁疇的矯頑力,可以通過釘扎機理及其對磁性的影響來控制和優化磁體性能;

                    (4)金屬膜的物理氣相沉積腐蝕機理的研究;

                    降低物理氣相沉積規模工藝的成本,提高其市場競爭力,并替代或部分替代現有環境和資源負荷較大的電鍍釹鐵硼工藝,鑫磊磁電小編認為將是該領域的長期研究目標。

                    天堂BT种子资源WWW在线下载